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'关键字: 光刻胶'
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光刻胶
及光刻工艺流程
光刻胶
(Photoresist简称PR)又称光致抗蚀剂,它是一种对光敏感的有机化合物,它受紫外光曝光后,在显影液的溶解度会发生变化。①
光刻胶
作用:将掩...
2017-08-23 10:25:14
光刻胶
使用过程中的注意事项
1、 保存:
光刻胶
中的光敏组分是非常脆弱的,除了有温度的要求外,对于储存时间和外包装材料有很严格的要求。一般使用棕色的玻璃瓶包装,再套上黑色塑料袋,
光刻胶
确实是在...
2016-10-26 08:55:21
光刻胶
及光刻工艺流程
光刻胶
又称为光致抗饰剂,它是一种对光敏感的有机化合物,受紫外光曝光后,在显影液中的溶解度会发生变化。主要作用是将掩膜板上的图形转移到晶圆表面顶层的光刻...
2016-08-23 16:51:39
SU 8
光刻胶
系列
SU 8
光刻胶
系列 汶昌芯片SU-8系列
光刻胶
是汶昌芯片与中科院化学研究所共同开发的国内第一款厚胶,完全可以替代MicroChem S...
2016-04-14 11:30:20
AZ
光刻胶
系列
AZ
光刻胶
系列 厚度从1μm到150μm以及更厚 以AZ1500为例 为广泛应用于半导体制造领域而优化的高感光度G线...
2016-04-14 11:26:47
SU-8
光刻胶
产品性能及光刻工艺介绍
SU-8
光刻胶
以其优异的机械性能、良好的热稳定性和耐腐蚀性,具有自整平、对近紫外光敏感且吸收极小等优点,在MEMS (micro (optical) elec...
2014-09-30 10:16:50
AZ4620
光刻胶
超厚膜高感光度G线标准正型
超厚膜,高对比度,高感光度正型
光刻胶
, 适用于半导体制造及GMR磁头制造 ...
2014-06-26 08:42:08
正负
光刻胶
的缺点对比
一般来说线宽的用正胶,线窄的用负胶! 相对而言,正性
光刻胶
比负性的精度要高,负胶显影后图形有涨缩,负性胶限制在2~3μm.,而正性...
2014-06-25 10:49:59
SU 8
光刻胶
工艺
艺在基片表面旋涂所需要厚度的SU-8胶 3) 利用热板对SU-8
光刻胶
进行前烘处理,在热板上缓慢冷却 4) 在Karl Suss MA...
2014-06-05 10:43:26
微结构制备
● 干膜光刻加工工艺:使用干膜法进行芯片模具加工,以替代以往
光刻胶
旋涂工艺,在不改变加工精度和质量的前提下,大大提高了批量化生产的效率;干...
2024-04-24 09:05:27
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