整站搜索
技术学院
产品服务
设计&制备
下载中心
新闻资讯
网站首页
整包方案
技术学院
产品服务
设计&制备
下载中心
新闻资讯
客户案例
联系我们
站内搜索
所有一级栏目
技术学院
产品服务
设计&制备
下载中心
新闻资讯
所有二级栏目
所有三级栏目
标题 和 内容
标题
内容
当前位置:
网站首页
>
站内搜索
> 全站搜索  
'关键字: 光刻'
站内搜索
光刻
胶及
光刻
工艺流程
光刻
胶(Photoresist简称PR)又称光致抗蚀剂,它是一种对光敏感的有机化合物,它受紫外光曝光后,在显影液的溶解度会发生变化。①
光刻
胶作用:将掩...
2017-08-23 10:25:14
光刻
技术首次绘出银纳米结构 为光学计算机研发开辟新途径
茨材料和能源研究中心与联邦材料测试与研究机构合作,首次在银材料底层上完成
光刻
纳米结构,为未来光计算机数据处理、新型电子器件制造开辟了新的途径。这项成...
2017-08-09 14:34:17
光刻
胶使用过程中的注意事项
1、 保存:
光刻
胶中的光敏组分是非常脆弱的,除了有温度的要求外,对于储存时间和外包装材料有很严格的要求。一般使用棕色的玻璃瓶包装,再套上黑色塑料袋,
光刻
胶确实是...
2016-10-26 08:55:21
光刻
胶及
光刻
工艺流程
光刻
胶又称为光致抗饰剂,它是一种对光敏感的有机化合物,受紫外光曝光后,在显影液中的溶解度会发生变化。主要作用是将掩膜板上的图形转移到晶圆表面顶层的光...
2016-08-23 16:51:39
解析投影式
光刻
机曝光分类
对于普通人来说,
光刻
机或许是一个陌生的名词,但它却是制造大规模集成电路的核心装备,每颗芯片诞生之初,都要经过
光刻
技术的锻造。
光刻
机,又名掩模对准曝光机,
光刻
系...
2016-08-17 16:46:37
URE-2000A型
光刻
机
URE-2000A型
光刻
机 ◆ 曝光面积:150mm×150mm ◆ 分辨力:0.8-1μm(胶厚2μm的正胶) ◆ 对准精度:0.6μm ◆ 掩模样片...
2016-04-15 09:09:37
URE-2000S/A型单、双面
光刻
机(厚胶型)
URE-2000S/A 型单、双面 ◆ 曝光面积: 1 5 0 mm× 1 5 0 m m ◆ 分辨力: 1 μm( 胶厚2 m 的正...
2016-04-15 09:08:31
URE-2000B型
光刻
机
1.技术参数 曝光面积:110mm×110mm 分辨力:0.8mm(胶厚2mm的正胶) 对准精度:±1mm 最大焦厚:...
2016-04-14 11:56:23
URE-2000/25型
光刻
机
URE-2000/25型
光刻
机 技术特征: 1、采用多反射镜实现均匀照明; 2、超精密手轮对准调节 ...
2016-04-14 11:50:39
URE-2000/35型
光刻
机
URE-2000/35型
光刻
机 ◆ 曝光面积: 1 0 0 m m × 1 0 0 m m ( 可升级1 5 0 m m × 1 5 0 m m ...
2016-04-14 11:48:05
«
‹
1
2
3
4
5
6
7
›
»