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'关键字: 正性光刻胶'
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玻璃PDMS微流控芯片的制备工艺
射镀膜机在清洗后的玻璃基片表面镀上铬膜,然后在其表面匀上RZJ-340
正性光刻胶
.通过前烘、曝光、显影后,将玻璃片浸入铬的刻蚀液中进行刻蚀并通过坚膜以...
2015-01-25 18:32:19
光刻基本操作步骤
目的:将未感光部分的负性光刻胶溶除,留下感光部分的胶膜;将感光部分的
正性光刻胶
除,留下未感光部分的胶膜 注意事项: ①、检查N2压...
2014-07-01 09:52:21
正负光刻胶的缺点对比
一般来说线宽的用正胶,线窄的用负胶! 相对而言,
正性光刻胶
比负性的精度要高,负胶显影后图形有涨缩,负性胶限制在2~3μm.,而正...
2014-06-25 10:49:59
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