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'关键字: 光刻胶'
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Lab Chip (Nature Photonics highlight)中科大微流控单细胞捕获研究...
首先设计制造了一定高度的微流控芯片,向芯片中通入包含有目标微颗粒或细胞的
光刻胶
或水凝胶;通过图像实时观测筛选目标颗粒,然后快速控制液体停流;使用飞秒激...
2018-06-23 08:50:01
解析投影式光刻机曝光分类
闻,但是对于投影式曝光,我们了解的甚少。 投影式曝光是指,在掩膜板与
光刻胶
之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制...
2016-08-17 16:46:37
微流控芯片的制作与修饰
ment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂
光刻胶
、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序Photolithogra...
2016-06-14 14:42:59
微流控PDMS芯片加工工艺
,结束制作。整理加工台面。 注:所需仪器:电热板、匀胶机、烘胶台;耗材:
光刻胶
、显影液、硅片等。注:上文中提及的相关仪器:真空脱泡搅拌机、恒温干燥箱、...
2016-04-29 15:05:13
单层模具加工工艺
中,滴入1~2滴修饰试剂HMDS,挥发处理时间≥3min;三、硅片甩胶将
光刻胶
倒在处理后的硅片上(注意避免气泡存在)。按照预定图形高度,设定匀胶机转速...
2016-04-25 16:50:48
光刻蚀的三个基本步骤
微米薄膜。 光刻技术:现在在薄膜表面用甩胶机均匀地覆盖上一层
光刻胶
。将光刻掩模上设计好的微流控芯片图案通过曝光成像的原理,将光刻转移到光胶...
2015-02-09 15:58:35
玻璃PDMS微流控芯片的制备工艺
镀膜机在清洗后的玻璃基片表面镀上铬膜,然后在其表面匀上RZJ-340正性
光刻胶
.通过前烘、曝光、显影后,将玻璃片浸入铬的刻蚀液中进行刻蚀并通过坚膜以提...
2015-01-25 18:32:19
先进的加工生产设备
成曝光图形的,与光学曝光对应,其特点是将聚焦电子束代替光照以实现抗蚀剂(
光刻胶
)的曝光(改性)。在实验室广泛应用的电子束曝光机为矢量扫描高斯型系统,即...
2015-01-23 11:53:00
在微流芯片中实现可控PH梯度
机打印输出到透明胶片上, 作为掩膜版使用. 使用AZ50
光刻胶
, 在Si片上以光刻的方法得到图1所示的图形, 即软光刻的模板. 实验中...
2014-08-14 09:24:34
集成微流控芯片的制备
较成熟 , 通过光刻等图案化手段可以使玻璃基片的特定图案暴露而其余部分被
光刻胶
或者金属镀层所保护 , 再利用氢氟酸或其缓冲 蚀 刻 剂 (例如 氢 氟...
2014-08-13 09:57:24
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