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'关键字: 曝光'
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URE-2000B型光刻机
1.技术参数
曝光
面积:110mm×110mm 分辨力:0.8mm(胶厚2mm的正胶) 对准精度:±1mm 最大焦厚:600mm(SU8胶,用户...
2016-04-14 11:56:23
URE-2000/25型光刻机
程,并提供USB输出; 既满足高精度对准,又可用于检测
曝光
结果,且
曝光
结果和方便存储; 5、
曝光
波长...
2016-04-14 11:50:39
URE-2000/35型光刻机
URE-2000/35型光刻机 ◆
曝光
面积: 1 0 0 m m × 1 0 0 m m ( 可升级1 5 0...
2016-04-14 11:48:05
SU 8光刻胶系列
光(365nm- 400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的
曝光
量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形;它还具有良好的力学性...
2016-04-14 11:30:20
AZ光刻胶系列
前烘:100℃ 60秒 (DHP)
曝光
:G线步进式
曝光
机/接触式
曝光
机 显影:AZ300MIF (...
2016-04-14 11:26:47
光刻蚀的三个基本步骤
面用甩胶机均匀地覆盖上一层光刻胶。将光刻掩模上设计好的微流控芯片图案通过
曝光
成像的原理,将光刻转移到光胶层上的工艺过程。 刻蚀:是将光胶...
2015-02-09 15:58:35
Sheet Exposure System
ure System 触摸屏用Sheet
曝光
机是触摸屏及LCD制造技术所需要的大面积
曝光
系统,是可实现微细线宽和高生...
2015-01-26 15:54:04
Mask Aligner
、25英寸,其他要求支持; 光束均匀性:<±3%
曝光
时间可调范围:0.1 to 999.9秒; 对准精度:1微米,最高0.5...
2015-01-26 15:39:34
玻璃PDMS微流控芯片的制备工艺
璃基片表面镀上铬膜,然后在其表面匀上RZJ-340正性光刻胶.通过前烘、
曝光
、显影后,将玻璃片浸入铬的刻蚀液中进行刻蚀并通过坚膜以提高光刻胶和牺牲层...
2015-01-25 18:32:19
先进的加工生产设备
电子束
曝光
机(JBX5500ZA) 背景: 电子束
曝光
是利用某些高分子聚合物对电子敏感而形成
曝光
图形的,与光学
曝光
对应,其特点...
2015-01-23 11:53:00
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