上海汶昌芯片科技有限公司
    
  • 网站首页
  • 整包方案
  • 技术学院
  • 产品服务
  • 设计&制备
  • 下载中心
  • 新闻资讯
  • 客户案例
  • 联系我们

新闻资讯

汶昌动态
行业资讯

当前位置:网站首页 > 新闻资讯 > 行业资讯
行业资讯

SU 8光刻胶工艺

实验室组建|实验室设备

 

 

 

1) 对衬底进行清洗,并在200℃烘30分钟以上以去除表面水分子

2) 用厚胶甩胶工艺在基片表面旋涂所需要厚度的SU-8胶

3) 利用热板对SU-8光刻胶进行前烘处理,在热板上缓慢冷却

4) 在Karl Suss MA6紫外光刻机上进行接触式曝光

5) 对曝光后的SU-8胶在热板上进行后烘热处理,得到交联的SU-8胶结构

   注:由于交联的SU-8胶结构内应力很大,可以导致基底弯曲变形和胶的开裂.所以加热必须缓慢,冷却应在热板上随热板冷却到室温

6) 超声显影,得到光刻胶图形

7) 将SU-8胶微结构在150℃-200℃下在热板上进行固化

 

 

实验室组建|实验室设备

 

1.Polydimethysiloxane(PDMS)浇铸成模

1) 将衬底有SU-8光刻图形模具固定在真空热压机上,底部放上待模压的PDMS

2) 关闭模腔并抽真空,将图形压入PDMS,升温至120℃,保持60s

3) 降温至40℃, 让模腔充气,打开模腔,取出SU-8+PDMS样品,并从SU-8图形上脱下PDMS图形

2. PDMS表面金属化

1) 清洗PDMS样品图形表面并做溅射前的处理

2) 将PDMS样品放入溅射机的真空腔并抽真空到合适的镀膜真空度

3) 在PDMS样品表面溅射100nm钛+300nm镍

4) 真空腔充气, 打开真空腔,取出表面金属化的PDMS样品.

3.在PDMS样品上电铸微模具

1)将氨基磺酸镍作为主盐,PH值3.5-4,溶液温度升到40℃±2℃,循环过滤(小于0.4微米)以控制电铸槽的旋浮颗粒大小

2)将PDMS样品放入电铸槽中

3)加1000HZ,占空比1:10,电流密度2A/cm2的脉冲电源

4)根据不同的高度,电铸不同的时

5)取出电铸后的PDMS样品,并将它烘干

6)在氧等离子体气氛下去除PDMS

7)在显微镜下对电铸的微结构进行检查,以确定最终的产品是否是成品

实验室组建|实验室设备   实验室组建|实验室设备

 

 

圆棒直径20um,高163.2um,深宽比为8.16 

 

实验室组建|实验室设备

 

 

(A)线宽5μm, 高280μm,深宽比为56 

(B)线宽10μm, 高350μm,高宽比为35 

 

实验室组建|实验室设备

(A) 线宽13,高160,深宽比为12; 

 

(B) 线宽16,高360,深宽比为22 

 

实验室组建|实验室设备

 

 

(1) 线宽53.85um,深宽比为6.9;

(2) 线宽42.3um,深宽比为8.8; 

(3) 线宽23.08um,深宽比为16.1;

(4) 线宽11.5um,深宽比为32.2。 

 

实验室组建|实验室设备

 

(A) 线宽20um,高163.2um,深宽比为8.16; (B) 线宽10um,高163.2um,深宽比为16.32 

 

作者:徐智谋 何少伟

点击次数:  更新时间:2014-06-05 10:43:26  【打印此页】  【关闭】
上一条:恒湿箱的日常维护和保养  下一条:能在早期为胎儿做纠正手术的微型机器人
在线留言      在线反馈      招贤纳士      相关设备      关于我们      友情链接      站内搜索      网站地图      会员中心

汶昌芯片 版权所有 苏ICP备12033695号-3 百度RSS 谷歌RSS

su8光刻胶 光刻机 微流控芯片 微流控芯片加工订做