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'关键字: 基片'
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SU 8光刻胶工艺
在200℃烘30分钟以上以去除表面水分子 2) 用厚胶甩胶工艺在
基片
表面旋涂所需要厚度的SU-8胶 3) 利用热板对SU-8光刻胶进...
2014-06-05 10:43:26
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