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'关键字: 曝光'
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SU-8光刻胶产品性能及光刻工艺介绍
有利于微细电铸工艺。胶膜结构质量受光刻工艺,如基底前处理、匀胶、前后烘、
曝光
、显影等环节影响,其中显影操作是光刻图形成形的关键环节,对于微结构的显影...
2014-09-30 10:16:50
微流控芯片基片图形光刻的三个步骤
均匀地涂覆在基片上; 其次:用光刻法将光刻掩膜上的图案以
曝光
的方式转移到光胶层上; 最后用显影液溶解去掉未
曝光
的负...
2014-08-13 09:33:16
掩膜的制备以及对掩膜的要求
光刻掩模的基本原理是图形区和非图形区对光线的吸收和透射能力不同。通过
曝光
成像的原理,将掩膜上的图形转移到基片光胶上。 ...
2014-08-11 13:24:56
PCR 微流控芯片微通道有哪些加工手段
电泳分离的CE 芯片。注塑法的工艺过程是: 在硅片表面涂上光刻胶, 通过
曝光
将模板图形复制到光刻胶上, 注入PDMS 或者其它高聚物, 将固化的高聚...
2014-07-17 10:14:54
光刻基本操作步骤
二、光刻的主要步骤: 匀胶、前烘、
曝光
、显影、显影后检查 匀胶: ...
2014-07-01 09:52:21
模拟子宫的微流控芯片技术
。待玻璃自然冷却后,用掩膜覆盖玻璃表面的SU-8 胶层,置于紫外光刻机下
曝光
20 s。
曝光
后立刻将玻璃置于烘胶台上95 ℃烘15 min。待玻璃自然...
2014-06-30 09:03:39
URE-2000/25型光刻机操作说明以及特性介绍
其主要特点是: 灯源采用 200W 交流高压汞灯,
曝光
波长使用 365nm,
曝光
面积φ100mm (可扩展为 150mm×15...
2014-06-27 13:17:45
AZ4620光刻胶超厚膜高感光度G线标准正型
前烘:100℃ 90秒以上 (DHP)
曝光
:G线步进式
曝光
机/接触式
曝光
系统 清...
2014-06-26 08:42:08
SU 8光刻胶工艺
慢冷却 4) 在Karl Suss MA6紫外光刻机上进行接触式
曝光
5) 对
曝光
后的SU-8胶在热板上进行后烘热处理,得到交联的S...
2014-06-05 10:43:26
基于玻璃基底微流控芯片的制备
整性。 感光胶的显影与
曝光
利用
曝光
仪对基底进行紫外
曝光
,紫外线照射,剂量为...
2014-05-14 13:54:38
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